CVD 回轉爐的核心 —— 化學氣相沉積（CVD）技術，堪稱材料制備領域的 “神奇魔法”。通過向回轉爐內輸送含目標元素的氣態(tài)化合物，在高溫、高壓的精準調控下，這些氣體發(fā)生奇妙的化學反應，將所需元素均勻沉積在材料表面，形成性能卓越的涂層。與傳統方法相比，CVD 技術的優(yōu)勢十分突出。它能在較低溫度下完成反應，大幅降低對材料基體的熱損傷，同時對沉積層的成分、結構和厚度實現精準控制，為材料性能的優(yōu)化和定制提供無限可能。

在 CVD 工藝里，溫度是決定材料質量的關鍵因素。罡正 CVD 回轉爐采用進口高精度溫度傳感器，配合智能溫控算法，能夠實時監(jiān)測并精準調控爐內溫度，測量精度可達 ±1℃。無論是對溫度變化極為敏感的半導體材料，還是對微觀結構要求苛刻的納米材料，都能在這款回轉爐中獲得理想的制備環(huán)境，確保材料性能的高度一致性。

在 CVD 過程中，氣體流量和壓力的精準控制對反應的順利進行至關重要。罡正 CVD 回轉爐配備多通道氣體流量控制系統，可獨立調節(jié)不同氣體的流量，精度達到 ±0.1sccm。同時，先進的壓力傳感器和自動調節(jié)裝置會根據工藝要求實時調整爐內壓力，讓反應始終處于最佳狀態(tài)。這種精確的氣體調控能力，不僅能保證材料沉積的均勻性，還能顯著提高生產效率，降低原材料損耗。